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Präzise Bestimmung der Kupfer-Konzentration mit WTW

Die quantitative Analyse der Kupfer-Konzentration ist eine wichtige Messgröße zur Überwachung und Steuerung industrieller Prozesse, insbesondere in der Galvanik. WTW bietet für diese spezifische Messaufgabe ein hochpräzises und zuverlässiges Messsystem, das auf der bewährten ionenselektiven Messtechnik (ISE) basiert.

Wie funktioniert die Kupfer-Messung?

Die Messung erfolgt mithilfe einer spezialisierten ionenselektiven Elektrode (ISE), die selektiv auf Kupfer(II)-Ionen ($Cu^{2+}$) in einer wässrigen Lösung reagiert. Die Festkörper-Membran der Elektrode erzeugt in Kontakt mit den Kupfer-Ionen ein elektrisches Potenzial, das in direktem Verhältnis zur Ionenkonzentration steht. Ein kompatibles Messgerät rechnet dieses Signal präzise in den Konzentrationswert um.

Was sind die typischen Anwendungsbereiche?

Das primäre Einsatzgebiet für die ionenselektive Kupfer-Messung ist die Überwachung von Galvanikbädern, um die Qualität und Effizienz des Beschichtungsprozesses sicherzustellen. Darüber hinaus wird sie in verschiedenen Bereichen der industriellen Prozess- und Abwasseranalytik eingesetzt, wo die Kupferkonzentration ein kritischer Parameter ist.

Welche Komponenten werden für eine Messung benötigt?

Ein vollständiges Messsystem für Kupfer besteht aus einer spezialisierten Kupfer-Elektrode, wie der WTW Cu 800, und einem Messgerät mit ISE-Funktion. Zusätzlich sind für die Kalibrierung und den Betrieb entsprechende Standard- und Elektrolytlösungen erforderlich. In unserem Shop finden Sie alle notwendigen Produkte, um ein komplettes und einsatzbereites System zusammenzustellen.